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                                      您好,歡迎光臨成都南光機器有限公司 English / 簡體中文
                                      產品展示
                                      ?JC系列磁控濺射鍍膜機
                                      • 用途及特點
                                      • 規格參數
                                        JC系列用途及特點
                                        Use and Features
                                         
                                        ●磁控濺射鍍膜設備主要用于在基片上鍍制金屬、半導體、電介質、多元素化合物或混和物。利用濺射法可制備金屬膜、半導體膜、絕緣膜、硬質膜、耐熱膜、耐腐蝕膜、超導膜、磁性膜、光學膜等各種特殊性能的薄膜。
                                        ●基片尺寸適應范圍廣,可鍍制多種材料,工藝可控性好、靈活性強、重復性高、基片溫升小、膜層附著力強,計算機全自動控制,******性高。且安裝維護方便,占地位置小。
                                        JC系列磁控濺射鍍膜機
                                        Series JC Magnetron Sputtering Coater
                                         
                                        主要機型及參數
                                        Main models and parameters
                                        型號
                                        Model
                                        應用特點
                                        Application field
                                        裝片工作臺特點
                                        Features of film loading bench
                                        基片尺寸
                                        Size of substrate
                                        產量/每小時
                                        1μ鋁層厚度
                                        Output per hour 1μm aluminum coating thickness
                                        厚度
                                        均勻性
                                        thickness homogeneity
                                        真空系統
                                        Vacuum system
                                        JC400-1/D 適合科研、生產硅片及砷化鎵片
                                        Scientific research,production of silicon film and gallium arsenide film
                                        全自動盒對盒送片,濺射源數量可按工藝調整,低塵粒
                                        Full automatic box-to-box film advance;quantity of sputtering source to be adiusted as per the process;low in density of dust particles
                                        4~6″ 40 ±5% 低溫泵加
                                        分子泵系統
                                        Cryogenic pump system added with molecular pump
                                        JC500-1/D 適用于圓形片狀工件
                                        Circular sheet work-piece
                                        工件可進行公轉,水平裝片
                                        Revolution of work-piece available;horizontal film loading
                                        4″ 16 ±8% 分子泵系統
                                        Turbomolecular pump system
                                        JC500-5/D 適用于矩形片狀工件
                                        Rectangular sheet work-piecevv
                                        工件可進行公轉,垂直裝片
                                        Revolution of work-piece available;vertical film loading
                                        150x150mm 10 ±8% 分子泵系統
                                        Turbomolecular pump system
                                        JC600-1/D 適用于矩形片狀工件
                                        Rectangular sheet work-piecevv
                                        工件架為十邊拄形,垂直裝片
                                        work-piece holder in decagonal column shape;vertical film loading
                                        280x100mm 20 ±8% 擴散泵系統
                                        Diffusion pump system
                                        JC600-2/D 適合科研、生產砷化鎵基片線寬亞微米級
                                        Scientific research,production of gallium arsenide film with line width at submicron level
                                        工件可進行自傳、公轉
                                        水平裝片
                                        Rotation and revolution of work-piece available;horizontal film loading
                                        3″ 24 ±5% 低溫泵系統
                                        Cryogenic pump system
                                        JC650-1/D 適用于矩形或圓形片狀工件
                                        Rectangular or circular sheet work-piece
                                        工件可進行公轉,水平裝片
                                        revolution of work-piece available;horizontal film loading
                                        Φ100mm 10 ±5% 分子泵系統
                                        Turbomolecular pump system
                                         

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